小口径ウェハ用大量生産連続式常圧CVD装置 A6300S

装置

小口径ウェハ用大量生産連続式常圧CVD装置 A6300S

●6インチ 毎時120枚のスループット
●SiCトレー採用による重金属汚染対策

特長

 小口径ウェハの大量生産装置のニーズにこたえ、毎時120枚のスループットを実現した連続式常圧
 CVD装置です。

 広範囲な成膜領域を実現するために開発したディスパージョンヘッドとトレー枚数を極限に絞った
 搬送システムで大量生産を可能にするとともにコストを抑えた装置です。

 SiCトレーの採用により重金属汚染は発生しにくくなりました。また熱による経年変化が少なく
 安定したプロセス性能が得られます。

 トレー自動交換機能を標準で装備し、作業者の安全性とメンテナンス時間の短縮を実現しました。
 またヘッドベースを自動的に上昇させる機構を採用したことにより、容易にクリーニングを行うこと
 ができます。

性能
膜厚均一性 ≦±4.0%
対応ウェハサイズ ≦6インチ
ガス種 SiH4, O2, PH3, B2H6, N2
成膜温度 350℃~450℃
生産性 120枚/時
主な仕様
装置サイズ 1500mm(W) x 2850mm(D) x 2000mm(H)
加熱機構 抵抗加熱
ロード・アンロード ロボットCtoC搬送
ディスパージョンヘッド
(ガスノズル)
A63ヘッド (標準2ヘッド)

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