装置
小規模生産・開発用常圧CVD装置 D501
●大型トレーに複数枚ウェハを装填するバッチ式
常圧CVD装置
特長
大型トレーに複数枚ウェハを装填し、トレーがディスパージョンヘッド下を往復し成膜するバッチ式
の常圧CVD装置です。
異形基板に対応可能です。
コンパクトな装置サイズで、フットプリントを小さくしてあります。
性能
膜厚均一性 | 膜厚・膜種による | |||||||||||||||||
対応ウェハサイズ | 加熱可能ゾーンに準じる | |||||||||||||||||
ガス種 | SiH4, O2, PH3, B2H6, N2 (TEOS, TEB, TMOP, O3, TMAはオプション) | |||||||||||||||||
成膜温度 | 350℃~450℃ | |||||||||||||||||
生産性 | ― |
主な仕様
装置サイズ | 1200mm(W) x 2480mm(D) x 1940mm(H) | |||||||||||||||||
加熱機構 | 抵抗加熱 | |||||||||||||||||
ロード・アンロード | マニュアル方式 | |||||||||||||||||
ディスパージョンヘッド (ガスノズル) |
A63ヘッド |