小規模生産・開発用常圧CVD装置 D501

装置

小規模生産・開発用常圧CVD装置 D501

●大型トレーに複数枚ウェハを装填するバッチ式
 常圧CVD装置

特長

 大型トレーに複数枚ウェハを装填し、トレーがディスパージョンヘッド下を往復し成膜するバッチ式
 の常圧CVD装置です。

 異形基板に対応可能です。

 コンパクトな装置サイズで、フットプリントを小さくしてあります。

性能
膜厚均一性 膜厚・膜種による
対応ウェハサイズ 加熱可能ゾーンに準じる
ガス種 SiH4, O2, PH3, B2H6, N2 (TEOS, TEB, TMOP, O3, TMAはオプション)
成膜温度 350℃~450℃
生産性
主な仕様
装置サイズ 1200mm(W) x 2480mm(D) x 1940mm(H)
加熱機構 抵抗加熱
ロード・アンロード マニュアル方式
ディスパージョンヘッド
(ガスノズル)
A63ヘッド

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