装置
小規模生産・開発用常圧CVD装置 D501
●大型トレーに複数枚ウェハを装填するバッチ式
常圧CVD装置
特長
大型トレーに複数枚ウェハを装填し、トレーがディスパージョンヘッド下を往復し成膜するバッチ式
の常圧CVD装置です。
異形基板に対応可能です。
コンパクトな装置サイズで、フットプリントを小さくしてあります。
性能
| 膜厚均一性 | 膜厚・膜種による | |||||||||||||||||
| 対応ウェハサイズ | 加熱可能ゾーンに準じる | |||||||||||||||||
| ガス種 | SiH4, O2, PH3, B2H6, N2 (TEOS, TEB, TMOP, O3, TMAはオプション) |
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| 成膜温度 | 350～450℃ (200～350℃) | |||||||||||||||||
| 生産性 | ― | |||||||||||||||||
主な仕様
| 装置サイズ | 1200mm(W) x 2480mm(D) x 1940mm(H) | |||||||||||||||||
| 加熱機構 | 抵抗加熱 | |||||||||||||||||
| ロード・アンロード | マニュアル方式 | |||||||||||||||||
| ディスパージョンヘッド (ガスノズル) |
A63ヘッド | |||||||||||||||||
