MOCVD装置; Doctor-T

装置

MOCVD装置; Doctor-TTM

●~8インチ ウェハ対応
●金属酸化膜・金属窒化膜等の成膜が可能
●特許取得クロッグフリー気化器採用
●4種類のMO原料ライン保有
●シングルチャンバー/デュアルチャンバー
 選択可

概要

●特許取得のクロッグフリー気化器を搭載し、多様な有機金属化合物の成膜が可能です。
●4種類のMO原料をそれぞれ流量制御し同時気化する為、組成比制御が容易です。
●膜厚均一性・埋め込み性が良好な成膜が可能です。

用途・実績例

・金属酸化膜: SBT/PZT/STO/BLT/BaTiO3/HfAlxOy/PGO/RuOx/IrOx/SRO/VO2/IGZO/BiOx 等
・金属窒化膜: TaN/TiN/Ta3N5/Nb3N5/AlN 等
・金属(化合物)膜: BiT/GST/SBTNb/Ti/Ta/Ru/Ir/B 等

特長

・クロッグフリー気化器による連続成膜
・容易な膜組成制御
・良好な膜厚均一性・埋め込み性

仕様
装置本体サイズ
(デュアルチャンバー)
1800mm(D) x 3380mm(W) x 2200mm(H)
加熱機構 抵抗加熱
ロード・アンロード クラスタチャンバー, ロボットCtoC搬送
ガスノズル 丸型
詳細

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